一月份剩余的事务安排，方卓把时间都留给了各家的业务和问题梳理，其中有个越来越让他头疼的问题在于，冰芯内部对于接下来的技术路线有了分歧。

冰芯2009年年度的预算很充足，先进制程的研发不是线性，如今的45nm还在进一步做良率爬升，继续展望的32nm和28nm在材料工艺和技术解决方案上就有些激烈的讨论。

32nm相较于45nm，是在它的基础上改换更好的材料，继续了缩小尺寸的老路，一方面，冰芯有在使用前代的ge strain工艺，另一方面也在研究第二代high-k绝缘层/金属栅工艺，以达到更好的效果。

而28nm基本就是晶体管平面结构的最后节点，接下来的3d晶体管finfet、折中的fd-soi、平面体硅三种技术路径，冰芯在拥有胡正明和梁孟淞两员大将的情况下必定直奔finfet。

但是，他们两位在28nm的工艺方案上就有些分歧。

准确的说，是梁孟淞与邱慈云、胡正明在前、后闸极方案上的意见很不同。

梁孟淞团队倾向于后闸极gate-last方案，邱慈云、胡正明他们倾向于前者gate-first。

前闸极方案是ibm为首的技术工艺，后闸极方案则是intel公司。

这种技术争端是让方卓最无计可施的，钱都好说，技术领域……他向来是尊重专业人士。

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